荷兰的ASML可以说是光刻机领域的巨头，不仅是唯一一个能够出货EUV光刻机的厂商，同时也拿下了中高端DUV光刻机的大部分市场份额。前不久ASML推出的NA EUV光刻机可以用于2nm制程芯片的量产，受到了不少芯片代工企业的追捧。

此前，由于光刻机出口管制的缘故，ASML不仅失去了中国市场，同时出货量也开始迅速下跌，外界普遍不看好ASML在2024年能够维持与2023年相当的出货量。原本ASML以为可以依靠NA EUV光刻机来挽回一下营收，可是从目前的情况来看，佳能最新的纳米压印半导体设备将在今年正式量产，这意味着在光端光刻机领域，ASML也迎来了最大的“竞争对手”。

纳米压印技术是一种新兴的芯片制造技术，近些年来也成为了不少半导体设备厂商研发的重点之一。这种技术和传统的光刻技术相比有着不少的优点，其中最显著的一项就是成本造价更低，然后分辨率也更高。

如今的EUV光刻机单台售价都在上亿美元，而最新的NA EUV光刻机更是在3亿多4亿美元，折合人民币在20亿到30亿元左右。对于芯片制造厂商来说也是一个不小的负担，可以说价格十分的昂贵。

从此前佳能传出的消息来看，单台DPA-1200NZ2C纳米压印光刻机，能够实现5nm制程芯片的生产，与同样生产5nm制程的EUV光刻机相比，成本仅有10%左右。这也意味着售价基本上也就是EUV光刻机的十分之一左右了。

最关键的是，成本低不仅仅表现在造价成本上，还表现在使用成本上。光刻机一直都是耗电大户，可是又不能反复关闭，会导致设备受损。因此在EUV光刻机不适用的时候也只能开着，这也导致耗电量的进一步增加。纳米压设备在使用的时候耗电量也仅有光刻机的10%左右，这其实也就意味着购买一台EUV光刻机，可以购买10台相同制程的纳米压印设备了。

目前，纳米压印设备实现了5nm制程，佳能表示将会在2024年进行量产，不过目前的产能有多少还是一个未知数，这款纳米压印设备能否替代EUV光刻机还是要看之后的产能。最值得关注的一点的是，从佳能透露的消息来看，预计到2026年前后该设备可能突破2nm制程，可以用于2nm制程芯片生产。

这也意味着，在先进制程方面纳米压印设备的追赶还是很快的，如果实际表现真的如目前公开的情况来看，那么有可能将会对如今的全球芯片产业格局产生不小的影响。

要知道，纳米压印设备可是佳能自己研发出来的，其中基本上没有多少美国技术，这也意味着美国是无法限制纳米压印设备出货的。之后国内厂商很有可能可以购买到这种设备，实现先进芯片的量产也会更加方便一些。

这对于ASML来说显然不是什么好消息，毕竟如今能够生产先进芯片的厂商数量并不算多，基本上就是台积电、三星等几家，这些厂商都已经拥有了足够数量的EUV光刻机，这也导致ASML的EUV光刻机出货数量受到影响。佳能的纳米压印设备不受出口管制影响，显然能够比EUV光刻机获得更多的用户青睐。

毫无疑问，半导体设备领域已经开始发生变化了，ASML能否继续守住目前的光刻机巨头位置估计不太好说了。